ТОМ 73, №2
О новой возможности наращивания тонких пленок алмаза при осаждении углерода из газовой фазы
Предлагается новый метод наращивания тонких пленок алмаза, в основу которого положена разность в скоростях сублимации графита и алмаза. Данный метод рекомендуется использовать для получения алмазных пленок при температурах выше 1000оС без применения химического травителя.
Автор: Л. О. Мелешко
Стр: 454-457
Л. О. Мелешко.
О новой возможности наращивания тонких пленок алмаза при осаждении углерода из газовой фазы // Инженерно-физический журнал.
2000. ТОМ 73, №2. С. 454-457.
Возврат к списку