ТОМ 74,   №5

Синтез тонких пленок с регулируемым поглощением с помощью струйного высокочастотного индукционного плазмотрона


Исследуются тонкопленочные покрытия SiOx и TiOx (0 < x < 2) с регулируемым поглощением, полученные с помощью струйной ВЧ плазмы в условиях динамического вакуума.

Автор:  И. Ш. Абдуллин, Р. Т. Галяутдинов, Н. Ф. Кашапов
Стр:  104-107

Библиографическая ссылка (для цитрирования)
И. Ш. Абдуллин, Р. Т. Галяутдинов, Н. Ф. Кашапов.  Синтез тонких пленок с регулируемым поглощением с помощью струйного высокочастотного индукционного плазмотрона // Инженерно-физический журнал. . ТОМ 74, №5. С. 104-107.


Возврат к списку