Влияние температурно-временных параметров термообработки на процесс планаризации рельефа поверхности микроэлектронных структур

Рассмотрен процесс оплавления фосфоросиликатного и борофосфоросиликатного стекла при планаризации поверхности интегральных микросхем в условиях как изотермической, так и импульсной термообработки. Получено выражение для расчета угла оплавления ступеньки рельефа в зависимости от концентрации легирующих примесей в стекле, времени и температуры термообработки.


Автор:  С. П. Жвавый , Г. Д. Ивлев , В. А. Пилипенко , В. Н. Пономарь
Стр:  127-132