ДИНАМИКА ЗАРЯДОВ ЭЛЕКТРОННЫХ И ИОННЫХ ПОТОКОВ В ЛАЗЕРНО-ПЛАЗМЕННОМ ИСТОЧНИКЕ ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОСТРУКТУР

На основе проведенных экспериментов найдены причины искажения формы импульса ионного пото- ка, поступающего на подложку в лазерно-плазменном источнике для нанесения нанопокрытий при малых ускоряющих потенциалах, предложены способы их устранения. Определена конструкционная емкость лазерно-плазменного источника, которая составляет ~40 нФ, что важно для проведения последующих экспериментов. Показано, что при устранении искажения формы импульса ионного тока на поверхность подложки поступает более равномерный поток ионов, за счет чего увеличивается КПД процесса нанесе- ния тонких равномерных нанопокрытий
На основе проведенных экспериментов найдены причины искажения формы импульса ионного пото- ка, поступающего на подложку в лазерно-плазменном источнике для нанесения нанопокрытий при малых ускоряющих потенциалах, предложены способы их устранения. Определена конструкционная емкость лазерно-плазменного источника, которая составляет ~40 нФ, что важно для проведения последующих экспериментов. Показано, что при устранении искажения формы импульса ионного тока на поверхность подложки поступает более равномерный поток ионов, за счет чего увеличивается КПД процесса нанесе- ния тонких равномерных нанопокрытий Автор:  В. К. Гончаров, М. В. Пузырев
Ключевые слова:  лазерная плазма, ионные потоки, наноструктуры
Стр:  1075