РОЛЬ ИОНОВ РАЗЛИЧНОЙ КРАТНОСТИ В ЛАЗЕРНО-ПЛАЗМЕННОМ ИСТОЧНИКЕ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ НАНОПОКРЫТИЙ

Рассмотрены физические процессы, происходящие в лазерно-плазменном источнике для нанесения нанопокрытий с использованием ионных потоков. В этом источнике между углеродной лазерной мишенью и медной подложкой помещена сетка. На сетку по отношению к мишени подается отрицательный потенциал и после нее формируется поток заряженных частиц, состоящих преимущественно из ионов. Подавая на сетку положительный потенциал по отношению к подложке, можно управлять энергией ионов, движущихся к подложке. В промежутке сетка–подложка обнаружены потоки ионов разной кратности ионизации. Показано, что при потенциале электрического поля в промежутке сетка–подложка 100 В и более кинетической энергии ионов достаточно для появления вторичной эмиссии ионов с поверхности подложки. Результаты экспериментов позволяют определить два режима обработки поверхности подложки. При значительных электрических полях в промежутке сетка–подложка можно очистить поверхность подложки за счет ионного травления. При малых значениях электрического поля можно проводить нанесение материала лазерной мишени на поверхность подложки
  Автор:  В. К. Гончаров, Г. А. Гусаков, М. В. Пузырёв
Ключевые слова:  лазерная плазма, ионные потоки, нанопокрытия
Стр:  1281